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41.
针对磷化铟(InP)复合沟道高电子迁移率晶体管(HEMT)的特点,对常规单沟道HEMT的小信号物理模型进行了修正,提出了一种新的用于复合沟道HEMT的小信号物理模型,用商用器件模拟软件ISE(integrated systems engineering)对其进行了仿真验证,对比了实测和仿真的I-V特性及转移特性曲线,重点研究了在InGaAs/InP双层沟道中考虑量子效应后的电场和电流密度随着不同栅电压的变化趋势,研究结果表明,由于在沟道中存在量子效应,在栅下靠源端低电场区域,电流主要分布在InGaAs沟道 关键词: 高电子迁移率晶体管 复合沟道 物理模型 磷化铟  相似文献   
42.
SiO2-羟基表面上金属原子的第一性原理研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
采用第一性原理方法研究了SiO2-羟基表面上几种金属原子的吸附性质,发现In和Ga在SiO2-羟基表面上的结合很弱,而Fe,Co,Ni在该表面上与Si,O形成强的化学键.等势能面和扩散势垒计算表明In(Ga)的扩散激活能只有0.1-0.3 eV,表明这两种原子容易在表面上扩散.这些结果可以定性地解释纳米合成中的一些实验现象.  相似文献   
43.
采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上生长了掺镧钛酸铅(PLT)铁电薄膜.用X射线衍射技术(XRD)研究了PLT薄膜结晶性能,结果表明PLT薄膜为(111)择优取向钙钛矿相织构.使用原子力显微镜(AFM)和压电响应力显微镜(PFM)分别观察了PLT薄膜的表面形貌和对应区域的电畴结构.PFM观察显示PLT薄膜中存在90°纳米带状畴,电畴的极化为首尾相接的低能量的排列方式,带状畴的宽度为20-60nm.研究了PLT10铁电薄膜的制备条件与性能之间的关系.发现在优化条件下制备的PLT10铁电薄膜的介电常数εr为365、介电损耗tgδ为0.02,热释电系数γ为2.18×10-8C·(cm2·K)-1,可以满足制备非制冷红外探测器的需要.  相似文献   
44.
对于线性型多目标半定规划问题,引进加权中心路径的概念,并利用单目标半定规划的中心路径法,提出了求解多目标半定规划问题的加权中心路径法,先得型对一个叔向量的有效解,然后在此基础上,提出了通过一次迭代得到对应一定范围内其他任意权向量的有效解的一步修正方法.  相似文献   
45.
A new type of partial-dielectric-loaded rectangular waveguide grating slow-wave structure (SWS) for millimeter wave traveling wave tube (TWT) is presented in this paper. The radio-frequency characteristics including the dispersion properties, the longitudinal electric field distribution and the beam-wave coupling impedance of this structure are analyzed. The results show that the dispersion of the rectangular waveguide grating circuit is weakened, the phase velocity is reduced and the position of the maximum E z is basically invariant after partially filling the dielectric materials in the rectangular waveguide grating SWS. Although the coupling impedance decreases a little, it still keeps above 40 Ω.  相似文献   
46.
Strong Vector Equilibrium Problems   总被引:3,自引:0,他引:3  
In this paper, the existence of the solution for strong vector equilibrium problems is studied by using the separation theorem for convex sets. The arc-wise connectedness and the closedness of the strong solution set for vector equilibrium problems are discussed; and a necessary and sufficient condition for the strong solution is obtained.  相似文献   
47.
D形光纤Bragg光栅弯曲灵敏度的理论和实验研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
周金龙  董小鹏  石志东 《光子学报》2006,35(11):1734-1737
用材料力学理论分析了D形光纤Bragg光栅(D-shaped fiber Bragg grating,D-FBG)以及常规光纤Bragg光栅由弯曲引起的轴向应变,得到了光栅Bragg波长漂移的弯曲敏感特性.实验结果和理论计算结果基本相符.与常规FBG相比,该D-FBG的弯曲灵敏度要高近80倍.因此D-FBG可以直接应用于弯曲形变的测量,以及间接应用于压力、加速度等物理量的测量.理论分析和实验结果对采用该类型光纤光栅的器件和传感系统的设计具有参考意义.  相似文献   
48.
H. Ju  Q. Gong 《Optics Communications》2006,259(2):861-867
We investigate carrier dynamics in a passive InAs/InP quantum dot (QD) waveguide using 255 fs optical pulses at a central wavelength of 1568 nm. We observe strong anisotropy of absorption saturation for different polarizations. Pump-probe measurements indicate the presence of carrier relaxation dynamics on a timescale in the order of tens of picoseconds due to cascaded relaxation of carriers generated by two-photon absorption (TPA) from the bulk region to the QDs via the wetting layer. These relaxation timescales are much longer than in QD amplifiers. Our observations are supported by a rate-equation model which includes TPA, showing good agreement with the pump-probe measurements.  相似文献   
49.
We studied the influence of focusing depth on the index change threshold and damage threshold of silica glass irradiated by a focused 120 fs laser beam. Both thresholds increased with the focusing depth. The aspect ratio of the waveguide cross section can be selected by changing the focusing depth. A 5 mm long waveguide was written at the depth of 2100 μm, which was single mode at 632.8 nm and exhibited propagation loss of 0.56 dB/cm. The refractive index change was calculated to be ∼2.47×10-3. The influence of the focusing depth should be considered in multi-layer devices as shown in the fabrication of a 3×3 waveguide array. PACS 42.62.-b; 42.82.Et; 81.05.Kf  相似文献   
50.
20GHz注入锁模光纤激光器实验   总被引:3,自引:0,他引:3  
稳定、波长可调谐的窄脉冲光源是未来光时分复用/波分复用光纤通信系统的重要组成部分。报道了一个20GHz的注入锁模光纤激光器的实验。利用一个10GHz的导体体激光器作为光源,最终得到了波长可调谐的重复频率为20GHz、脉冲宽度为12.4ps的光脉冲,波长的调谐范围为16nm。  相似文献   
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